一、核心特性

‌耐腐蚀性‌

耐受强酸（氢氟酸、王水、浓硫酸等）、强碱及有机溶剂（如丙酮、DMF），无金属溶出污染‌14。

表面光滑不粘附，避免样品残留或交叉污染‌45。

‌高纯度与低本底‌

金属元素溶出率极低（铅、铀＜0.01ppb），满足半导体级（G5）洁净要求，适用于ICP-MS、同位素分析等超痕量检测‌45。

‌耐温性与透明性‌

工作温度范围-200℃~+260℃，支持高温灭菌或低温存储‌45。

半透明材质便于实时观察瓶内液体状态‌45。

‌密封性与安全性‌

瓶口与瓶盖采用精密螺纹设计，密封性强，避免酸雾逸出或液体渗漏‌46。

无需内塞，减少二次污染风险‌46。

二、典型应用领域

‌半导体制造‌

存储光刻胶、蚀刻液（氢氟酸/HNO₃）等高纯度试剂，确保晶圆清洗工艺的洁净度‌46。

‌痕量分析实验室‌

存放标准溶液、高浓度腐蚀性试剂（如超纯HNO₃、HCl），适配ICP-MS/OES、同位素检测实验‌45。

‌新能源与制药‌

锂电池电解液、多晶硅生产用酸的长期储存‌56。

生物制药中蛋白质、多肽等敏感样品的低温保存‌